机译:基于二维材料的片上集成光电电路和六边形氮化物作为光学限制层
Natl Univ Singapore Dept Chem 3 Sci Dr 3 Singapore 117543 Singapore;
机译:基于二维材料和六方氮化硼作为光限制层的片上集成光子电路
机译:来自时间依赖性密度函数理论的二维原子层材料中的激子:单层和双层六边形氮化物和过渡 - 金属二均甲基化物
机译:二维材料外推缺陷转换水平:单层六边形氮化物中带电的天然点缺陷的情况
机译:基于集成光通信应用的功能材料可重新配置的光子集成电路(RPIC)
机译:六方氮化硼/石墨烯异质结构,六方氮化硼层和立方氮化硼纳米点的分子束外延生长
机译:光学对比度和拉曼光谱技术在少层二维二维六方氮化硼中的应用
机译:基于二维材料的片上集成光电电路和六边形氮化物作为光学限制层