机译:等离子刻蚀过程中等离子引起的表面粗糙和波纹形成的起源:离子反射的关键作用
Kyoto Univ, Grad Sch Engn, Dept Aeronaut & Astronaut, Nishikyo Ku, Kyoto 6158540, Japan;
Kyoto Univ, Grad Sch Engn, Dept Aeronaut & Astronaut, Nishikyo Ku, Kyoto 6158540, Japan;
Kyoto Univ, Grad Sch Engn, Dept Aeronaut & Astronaut, Nishikyo Ku, Kyoto 6158540, Japan;
Kyoto Univ, Grad Sch Engn, Dept Aeronaut & Astronaut, Nishikyo Ku, Kyoto 6158540, Japan;
Kyoto Univ, Grad Sch Engn, Dept Aeronaut & Astronaut, Nishikyo Ku, Kyoto 6158540, Japan;
Kyoto Univ, Grad Sch Engn, Dept Aeronaut & Astronaut, Nishikyo Ku, Kyoto 6158540, Japan;
机译:硅等离子体蚀刻过程中的表面形态演化:粗糙化,平滑和纹波形成
机译:硅等离子蚀刻过程中的表面形态演化:粗糙化,平滑和纹波形成(Vol 50,414001,2017)
机译:在Cl2中进行等离子刻蚀期间在Si表面形成波纹
机译:等离子体蚀刻下表面粗糙化的三维建模与仿真
机译:交联在等离子蚀刻过程中聚合物表面粗糙化中的作用
机译:选定的表面粗糙化等离子氮化304奥氏体不锈钢中的相形成
机译:硅等离子刻蚀过程中的两种表面粗糙处理模式:电离刻蚀产物的作用