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机译:使用微波激发的非平衡大气压等离子体超高速蚀刻有机膜
Department of Quantum Engineering, Nagoya University, Furo-Cho, Chikusa-ku, Nagoya 464-8603, Japan;
机译:在微波激发的非平衡大气压等离子体中对Si进行具有超高选择性的SiO_(2)的超高速蚀刻
机译:使用大气压脉冲电晕等离子体改性表面能,干法蚀刻和去除有机膜
机译:SiO_2刻蚀非平衡大气压脉冲远程等离子体的离子附着质谱
机译:通过N_2和H_2的蚀刻蚀刻有机IOW-K膜的表面反应
机译:大气压非平衡等离子体化学处理金刚石薄膜的等离子体辅助化学气相沉积(PACVD)的实验研究
机译:不同氟基混合气体使用电感耦合等离子体干法刻蚀钛酸钡薄膜的比较分析
机译:错误:使用大气压非Quigibibrium微波等离子体喷射体积93,第42-49页,第42-49页的基本特征