机译:N_2和H_2等离子体蚀刻有机低k膜期间的表面反应
机译:在电感耦合的H_2 / N_2等离子体中,采用组合等离子体工艺通过内部参数解释有机低k膜的蚀刻特性
机译:H_2 / N_2等离子刻蚀中有机Low-k薄膜上由于辐射,自由基和离子引起的特性变化的评估
机译:通过N_2和H_2的蚀刻蚀刻有机IOW-K膜的表面反应
机译:有机材料等离子体刻蚀的刻蚀轮廓控制与表面反应研究
机译:聚合物/富勒烯共混膜的选择性湿蚀刻用于表面和纳米形态控制的有机晶体管和灵敏度增强的气体传感器
机译:微波测量CH_4 / H_2 / N_2等离子体增强化学气相沉积过程中氮掺杂金刚石薄膜的椭偏研究