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机译:Gd_2O_3薄膜光学常数色散的椭圆偏振光谱研究
Spectroscopy Division, Bhabha Atomic Research Centre, Mumbai 400 085, India;
机译:相位调制光谱椭圆仪研究Gd_2O_3薄膜光学常数的色散
机译:相位调制光谱椭偏法分析共沉积Gd_2O_3 / SiO_2复合薄膜
机译:介电常数分析,以确定sp(3)/ sp(2)的比值以及衬底偏压对使用S弯曲过滤阴极真空电弧法生长的四面体非晶碳膜的光谱椭偏研究的影响
机译:低硼浓度氮化硼溅射薄膜的光学和光谱椭偏研究
机译:研究铝基多层薄膜的光学常数的变化。
机译:液相HF工艺对天然氧化物除去的光谱 - 椭圆形研究
机译:分析介电常数以确定sp(3)/ sp(2)比率和衬底偏压对使用s弯曲过滤阴极真空电弧工艺生长的四面体无定形碳膜的椭偏光谱研究的影响
机译:半导体上半导体薄膜的椭偏和光学研究