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机译:介电常数分析,以确定sp(3)/ sp(2)的比值以及衬底偏压对使用S弯曲过滤阴极真空电弧法生长的四面体非晶碳膜的光谱椭偏研究的影响
Spectroscopic ellipsometry; Optical constants; FCVA; sp(3)/sp(2); ta-C; Substrate bias;
机译:介电常数分析,以确定sp(3)/ sp(2)的比值以及衬底偏压对使用S弯曲过滤阴极真空电弧法生长的四面体非晶碳膜的光谱椭偏研究的影响
机译:氢和氮的掺入对S弯滤阴极真空电弧法生长四面体非晶碳膜性能的影响
机译:使用S弯曲过滤阴极真空电弧工艺沉积的氢和氮结合的四面体无定形碳膜的反射和光致发光光谱
机译:过滤的阴极真空弧沉积的四面体非晶碳膜结构和摩擦系数的影响
机译:通过超临界二氧化碳处理的纳米微孔低介电常数薄膜的光谱椭圆偏振分析,适用于下一代微电子设备。
机译:四面体无定形碳制备的过滤阴极阴极真空电弧用于钙钛矿太阳能电池和量子点LED中的空穴传输层
机译:分析介电常数以确定sp(3)/ sp(2)比率和衬底偏压对使用s弯曲过滤阴极真空电弧工艺生长的四面体无定形碳膜的椭偏光谱研究的影响