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Deep level transient spectroscopy and capacitance-voltage study of dislocations and associated defects in SiGe/Si heterostructures

机译:SiGe / Si异质结构中位错和相关缺陷的深层瞬态光谱学和电容电压研究

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摘要

Three SiGe/Si heterostructures with different Ge contents have been examined by deep level transient spectroscopy (DLTS) and capacitance-voltage techniques. DLTS revealed a broad band of traps from 80 to 250 K in the as-grown samples. Arrhenius plots of a
机译:通过深能级瞬态光谱法(DLTS)和电容-电压技术研究了具有不同Ge含量的三种SiGe / Si异质结构。 DLTS在所生长的样品中揭示了从80到250 K的广泛陷阱。 Arrhenius图

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