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机译:优化用于11 nm波长的极紫外干扰光刻的气体放电等离子体源
Institute for Laser Technology, Steinbachstrasse 15, D-52074 Aachen, Germany;
Technology of Optical Systems, RWTH Aachen University and JARA Fundamentals of Future Information Technology, Steinbachstr. 15, 52074 Aachen, Germany;
Technology of Optical Systems, RWTH Aachen University and JARA Fundamentals of Future Information Technology, Steinbachstr. 15, 52074 Aachen, Germany;
机译:13.5 nm的强等离子体放电源,用于极紫外光刻
机译:激光产生的等离子体与激光辅助的放电等离子体:极紫外光刻光源的物理和技术
机译:极端紫外线光刻设备中激光和放电产生的等离子体的减屑系统的建模和优化
机译:激光产生的水等离子体源,用于极紫外光刻和波长干涉测量
机译:强烈的毛细管放电等离子体极紫外光源,用于极紫外光刻和其他极紫外成像应用。
机译:极紫外光刻光源的激光产生的锡等离子体的电子密度和温度的时间分辨二维分布
机译:用于极端紫外线光刻的135nm强度等离子体放电源