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机译:等离子照射过程中Arf光致抗蚀剂的抗蚀刻性和表面粗糙度低的机理
Institute of Fluid Science, Tohoku University, 2-1-1 Katahira, Aoba-ku, Sendai 980-8577, Japan;
机译:CF_4等离子体束辐照研究ArF光致抗蚀剂的表面粗糙度
机译:通过添加化学反应抑制剂提高ArF光刻胶的耐等离子体性并降低粗糙度
机译:影响ArF光刻胶的耐等离子体性和粗糙度形成的决定性因素
机译:新型ArF光致抗蚀剂聚合物可抑制等离子蚀刻工艺中的粗糙度形成
机译:用于高级光刻胶系统的模型聚合物的等离子体-表面相互作用
机译:紫外线辐照对纳米复合材料中多壁碳纳米管的影响:缠结表面层的形成和耐剥离机理
机译:商业KRF与ARF光致抗蚀剂之间的离子植入抗性的比较
机译:砂磨平滑表面摩擦阻力与粗糙度的关系。