机译:用于L1_0-FeNi薄膜生长的Cu缓冲层的表征
Institute of Materials Science, Tohoku University, Aoba-ku, Sendai 980-8577, Japan;
rnInstitute of Materials Science, Tohoku University, Aoba-ku, Sendai 980-8577, Japan;
rnInstitute of Materials Science, Tohoku University, Aoba-ku, Sendai 980-8577, Japan;
机译:使用CeO2缓冲层通过薄雾微波等离子体化学气相沉积法沉积YBa2Cu3Ox和NdBa2Cu3Ox超导薄膜
机译:YBa_(2)Cu_(3)O_(x)和NdBa_(2)Cu_(3)O_(x)超导薄膜的生长和表征通过使用CeO_(2)缓冲层的薄雾微波等离子体化学气相沉积
机译:在硅(100)衬底上直接生长SrTiO sub(3)(100)层;用作生长DyBa sub(2)Cu sub(3)O sub(7- delta)薄膜的缓冲层
机译:L1_0-FENI薄膜生长Cu缓冲层的表征
机译:Cu(In,Ga)Se2薄膜太阳能电池中的替代缓冲层开发
机译:用于有机发光二极管的MgO(001)层上的Cu-酞菁薄膜的生长和表征
机译:厚CeO2缓冲层表面形态对大滤器的超导特性及晶体生长的影响。 R-Al2O3基材上的薄膜
机译:Ba(2)YNbO(6)缓冲层对后续YBa(2)Cu(3)O(7-x)薄膜生长的研究