机译:惰性和干氧化环境退火下硅中的空洞演化以及Si_(1-x)Ge_x外延层帽的作用
Department of Electrical and Computer Engineering, McMaster University, Hamilton,Ontario L8S4K1, Canada;
Department of Electrical and Computer Engineering, McMaster University, Hamilton,Ontario L8S4K1, Canada;
Department of Engineering Physics, McMaster University, Hamilton, Ontario L8S4L7, Canada;
机译:在惰性和干氧化环境退火下,Si0.95Ge0.05外延层盖对硼在硅中扩散的作用
机译:纳秒激光退火Si_(1-X)Ge_x / Si脱落器中重结晶和应力松弛的研究
机译:高温退火过程中砷离子注入的Si_(1-x)Ge_x外延层的损伤去除和缺陷控制
机译:Si / Si_(1-x)Ge_x层在惰性和氧化性环境中的互扩散行为
机译:Si间隙在氧化环境中热退火下在Ge纳米微晶迁移和生长中的作用
机译:加帽引起的Ga(1-x)mn(x)as外延层退火抑制
机译:在惰性和氧化环境下的近内在(100)和(111)硅中的硼 - 扩散和分离。