机译:卤素存在下绝缘体上硅衬底表面的蚀刻性能和电特性
SOITEC, Parc Technologique des Fontaines, 38920 Crolles cedex, France;
SOITEC, Parc Technologique des Fontaines, 38920 Crolles cedex, France;
CEA, LET1, MINATEC, F38054 Grenoble, France;
SOITEC, Parc Technologique des Fontaines, 38920 Crolles cedex, France;
SOITEC, Parc Technologique des Fontaines, 38920 Crolles cedex, France;
CEA, LET1, MINATEC, F38054 Grenoble, France;
Goethe University, Institute of Inorganic and Analytical Chemistry, 60438 Frankfurt, Germany;
机译:卤素存在下绝缘体上硅衬底表面的蚀刻性能和电特性
机译:金属有机气相外延生长的硅衬底上掺卤素的CdTe层的电学性质
机译:金属有机气相外延生长硅衬底上的掺卤素CdTe层的电学性质
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机译:卤素诱导的硅表面改性:蚀刻粗糙化和阶跃转变。
机译:基于水泡试验技术的残余应力薄膜/基体系统表面和界面力学性能同步表征的理论研究
机译:塑料表面电性能蚀刻效果
机译:Gaas和Inp衬底上生长的分子束外延Insb和Inas(X)sb(1-X)的表面形貌和电学特性