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机译:用于4H-SiC位错应变场分析的X射线微束三维形貌
Central Research Institute of Electric Power Industry (CRIEPI), 2-6-1 Nagasaka, Yokosuka 240-0196, Japan;
Fuji Electric Co., Ltd., 1 Fuji-machi, Hino, Tokyo 191-8502, Japan;
Central Research Institute of Electric Power Industry (CRIEPI), 2-6-1 Nagasaka, Yokosuka 240-0196, Japan;
Central Research Institute of Electric Power Industry (CRIEPI), 2-6-1 Nagasaka, Yokosuka 240-0196, Japan;
机译:4H-SiC的X射线微束三维形貌成像和基底平面位错和螺纹边缘位错的应变分析
机译:X射线三维形貌在4H-SiC中的边沿和基面位错成像和应变分析
机译:单色同步加速器X射线形貌在掠入射布拉格情形下观察到的4H-SiC晶体中基面位错和螺纹边缘位错的Burgers向量的对比和识别
机译:X射线三维形貌在4H-SiC中的边沿和基面位错成像和应变分析
机译:同步X射线形貌表征4H-SiC衬底的缺陷
机译:4H-SiC 100 mm PVT生长过程中基面位错密度和热机械应力分析
机译:使用X射线微沟三维形貌,表征4H-碳化硅二极管中的螺杆位错
机译:位错阵列的同步加速器X射线形貌