机译:化学气相沉积在Ni(100)面上生长石墨烯的分子动力学模拟
Department of Physics, Faculty of Science, University of Zanjan, Zanjan, Iran;
Department of Physics, Faculty of Science, University of Zanjan, Zanjan, Iran;
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机译:Ni(111)表面化学气相沉积石墨烯生长的分子动力学模拟
机译:Si(3)和SiH2自由基的等离子体化学气相沉积过程中Si(001)-(2 x 1):H的不同晶体生长机理:紧密结合量子化学分子动力学模拟
机译:APS -APS 2017年3月会议-活动-通过ReaxFF分子动力学模拟了解MoS $ _ {mathrm {2}} $层的化学气相沉积(CVD)生长
机译:CVD对Ni(100)刻面初始阶段的石墨烯生长的分子动力学模拟
机译:金刚石(100)表面上碳二聚体的化学气相沉积(CVD)的分子动力学(MD)模拟以及神经网络(NN)的应用,用于事件概率预测。
机译:Cu(100)表面上石墨烯晶界的形成及其消除化学气相沉积生长的途径
机译:单晶石墨烯晶片:外延生长6英寸。通过化学气相沉积在750℃下在Cu / Ni(111)膜上的单晶石墨烯(小22/2019)