机译:具有非晶氧化铝栅极绝缘体的n沟道薄膜晶体管中的正电荷俘获现象
Electronics Laboratory, ETH Zuerich, Zuerich 8092, Switzerland;
Electronics Laboratory, ETH Zuerich, Zuerich 8092, Switzerland;
Electronics Laboratory, ETH Zuerich, Zuerich 8092, Switzerland,Sensor Technology Research Center, Department of Engineering and Design, University of Sussex,Brighton BNI 9QT, United Kingdom;
Electronics Laboratory, ETH Zuerich, Zuerich 8092, Switzerland;
Electronics Laboratory, ETH Zuerich, Zuerich 8092, Switzerland;
Electronics Laboratory, ETH Zuerich, Zuerich 8092, Switzerland;
Integrated Systems Laboratory, ETH Zuerich, Zuerich 8092, Switzerland;
Electronics Laboratory, ETH Zuerich, Zuerich 8092, Switzerland;
Electronics Laboratory, ETH Zuerich, Zuerich 8092, Switzerland;
机译:在静态正栅极偏置应力下的单极脉冲漏极偏置下,非晶In-Ga-Zn-O薄膜晶体管中电荷陷阱的增加和电子俘获效应的抑制引起的严重驼峰现象
机译:栅绝缘体中电荷陷阱密度分布对非晶铟镓锌氧化锌薄膜晶体管的正偏应力不稳定性的影响
机译:SiO_2栅绝缘体上具有超薄聚合物钝化作用的n沟道有机薄膜晶体管的电子俘获行为研究
机译:具有不同栅极绝缘体的溶液处理顶栅有机薄膜晶体管中的电荷传输
机译:栅极平面化和铝栅极完全自对准的非晶硅薄膜晶体管,用于大面积和高分辨率有源矩阵液晶显示器(AMLCD)。
机译:带有原子层沉积ZnO电荷陷阱层的非晶In-Ga-Zn-O薄膜晶体管存储器的电压极性相关编程行为
机译:具有非晶氧化铝栅极绝缘体的n沟道薄膜晶体管中的正电荷俘获现象