机译:室温下通过直流磁控溅射制备的疏水性ZnO薄膜的光学和其他物理性质
Thin Film Laboratory, Institute Instrumentation Centre, Indian Institute of Technology Roorkee, Roorkee, India;
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机译:衬底温度对直流磁控溅射制备ZnO和Al掺杂ZnO薄膜的结构和光学性能的影响
机译:射频磁控溅射制备不同温度的钛氢复合掺杂ZnO薄膜的物理性能
机译:沉积温度对脉冲直流磁控溅射制备的薄膜太阳能电池透明电极Al掺杂ZnO薄膜性能的影响
机译:DC反应磁控溅射制备的Zr掺杂ZnO薄膜电气和光学性能研究
机译:通过反应磁控溅射沉积的亚稳态钛(0.5)铝(0.5)铝合金薄膜的物理性能。
机译:射频磁控溅射制备(MgAl)共掺杂ZnO薄膜的光电性能研究与研究
机译:通过DC磁控溅射制备的p型SnO2:Ga(GTO)薄膜的电气和光学性能的影响和研究温度的影响