摘要
第一章前言
第二章文献综述
2.1引言
2.2 ZnO的研究进展
2.2.1 ZnO的一些本物理化学性质
2.2.2发光性能的研究
2.2.3电学性能的研究
2.3 ZnO中的缺陷和杂质
2.3.1ZnO薄膜中的点缺陷
2.3.2 ZnO中的杂质缺陷
2.4 p型ZnO的研究进展
2.4.1以V族元素为受主源
2.4.2以I族元素为受主源
2.5 ZnO薄膜的应用及前景
2.5.1.ZnO薄膜在光电器件方面的应用
2.5.2.ZnO薄膜在声表面波器件方面的应用
2.5.3.ZnO薄膜在太阳能电池方面的应用
2.5.4.ZnO薄膜在气敏元件方面的应用
2.5.5.ZnO与GaN互作缓冲层
第三章实验过程和设备及测试
3.1直流磁控溅射(DCMS)方法简介
3.2 S型枪直流反应磁控溅射设备
3.3溅射靶材
3.4 ZnO薄膜生长衬底(基片)的清洗
3.5直流反应磁控溅射制备ZnO薄膜的过程
3.6 ZnO薄膜物理性能测试
3.6.1物相组成与结构
3.6.2表面形貌、晶粒尺寸和膜厚
3.7 ZnO薄膜电学性能测试
3.8 ZnO薄膜光透射谱测试
第四章直流磁控溅射制备p型In-N共掺ZnO晶体薄膜
4.1 ZnO薄膜中晶粒的取向性
4.1.1溅射靶材中In元素的影响
4.1.2衬底温度的影响
4.2 ZnO薄膜的表面形貌
4.2.1靶材中In含量的影响
4.2.2衬底温度的影响
4.3 ZnO薄膜截面形貌
4.4共掺ZnO薄膜的电光学性能
4.4.1共掺和非共掺对电学性能的影响
4.4.2衬底温度对电学性能的影响
4.4.3衬底温度对光学性能的影响
4.5小结
第五章p型ZnO的共掺机理
5.1 Yamamoto的共掺理论
5.2 Y.F.Yan的共掺理论
第六章结论
参考文献
攻读硕士学位期间的发表或被录用的论文
致谢