机译:受控反应性大功率脉冲磁控溅射沉积ZrO_2薄膜过程的动力学:模型研究
Department of Physics and NTIS - European Centre of Excellence, University of West Bohemia, Univerzitni 8, 30614 Plzen, Czech Republic;
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机译:ZrO_2和Ta_2O_5薄膜在反应性大功率脉冲磁控溅射中的工艺稳定性和沉积速率的显着提高
机译:ZrO_2和Ta_2O_5薄膜在反应性大功率脉冲磁控溅射中的工艺稳定性和沉积速率的显着提高
机译:受控反应性高功率脉冲磁控溅射在二氧化锆膜沉积过程中的发射光谱
机译:介电氧化物薄膜的反应性高功率脉冲磁控溅射中的工艺稳定性和沉积速率的显着提高
机译:用于薄膜晶体管应用的氧化锌的反应性大功率脉冲磁控溅射
机译:大功率脉冲磁控溅射镍薄膜的斜角沉积
机译:高功率脉冲磁控溅射镍薄膜的倾斜角沉积