机译:纳米La_2Ti_2O_7压电薄膜上的离子束刻蚀
Univ Lille Nord de France, Lille F-59000, France,CNRS UMR 8181, Unite de Catalyse et de Chimie du Solide - UCCS, Lens F-62307, France,UArtois, UCCS, Lens F-62307, France;
Univ Lille Nord de France, Lille F-59000, France,CNRS UMR 8181, Unite de Catalyse et de Chimie du Solide - UCCS, Lens F-62307, France,UArtois, UCCS, Lens F-62307, France;
Univ Lille Nord de France, Lille F-59000, France,CNRS UMR 8181, Unite de Catalyse et de Chimie du Solide - UCCS, Lens F-62307, France,UArtois, UCCS, Lens F-62307, France;
Univ Lille Nord de France, Lille F-59000, France,CNRS UMR 8181, Unite de Catalyse et de Chimie du Solide - UCCS, Lens F-62307, France,UArtois, UCCS, Lens F-62307, France;
Univ Lille Nord de France, Lille F-59000, France,CNRS UMR 8520, Institut d'Electronique, de Microelectronique et de Nanotechnologie - IEMN, Villeneuve d'Ascq F-59652, France,UVHC, IEMN, Valenciennes F-59313, France;
Univ Lille Nord de France, Lille F-59000, France,CNRS UMR 8520, Institut d'Electronique, de Microelectronique et de Nanotechnologie - IEMN, Villeneuve d'Ascq F-59652, France,UVHC, IEMN, Valenciennes F-59313, France;
Univ Lille Nord de France, Lille F-59000, France,CNRS UMR 8520, Institut d'Electronique, de Microelectronique et de Nanotechnologie - IEMN, Villeneuve d'Ascq F-59652, France;
Univ Lille Nord de France, Lille F-59000, France,CNRS UMR 8520, Institut d'Electronique, de Microelectronique et de Nanotechnologie - IEMN, Villeneuve d'Ascq F-59652, France;
Univ Lille Nord de France, Lille F-59000, France,CNRS UMR 8181, Unite de Catalyse et de Chimie du Solide - UCCS, Lens F-62307, France,UArtois, UCCS, Lens F-62307, France;
机译:非晶态五氧化二钒薄膜的紫外激光改性和选择性离子束刻蚀
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