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何波; 徐静; 马忠权; 史衍丽; 赵磊; 李凤; 孟夏杰; 沈玲;
上海大学理学院物理系,上海,200444;
武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室,湖北,武汉,430070;
昆明物理研究所,云南,昆明,650223;
HgCdTe; 环孔pn结; I-V特性; 动态电阻; 表面漏电流;
机译:离子束刻蚀研究Y1Ba2Cu3O7-x台阶边缘结的传输特性
机译:在石墨衬底上制造的简单P-N结GaN的I-V特性
机译:研究氟碳沉积和刻蚀对在电感耦合等离子体反应器中使用三氟化甲烷的硅和二氧化硅刻蚀工艺的影响,以及用于研究等离子体苏尔的反应离子束系统的开发
机译:异质结构受控的红外成像仪的PN二极管可自动定位在HGCDTE上
机译:离子束注入制备钝化的PN结的方法
机译:离子束注入法制备钝化PN结的方法
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