机译:电介质薄膜异质结构的反应离子束蚀刻过程中离子电子发射的研究
机译:反应性离子束腐蚀钛酸锆钛合金薄膜引起的电损伤
机译:通过贴花转移光刻和反应性离子束蚀刻在电子材料上的聚二甲基硅氧烷抗蚀剂的微米和亚微米图案化:在高迁移率薄膜晶体管的制造中的应用
机译:Ge2Sb2Te5薄膜的反应离子刻蚀研究
机译:基于八氟环丁烷的等离子放电的特征,用于二氧化硅和低K介电薄膜的选择性刻蚀和处理。
机译:基于具有拟反相关界面的波纹金属薄膜的表面势垒异质结构中表面等离子-极化子的介电环境敏感性增强
机译:离子束刻蚀介电薄膜材料表面的电子发射特性