机译:{111}取向外延Pb(Mg_(1/3)Nb_(2/3))O_3和0.6Pb(Mg_(1 / 3Nb_(2/3))O_3-0.4介电性能的厚度和温度依赖性PbTiO_3膜
Tokyo Inst Technol, Dept Innovat & Engineered Mat, Yokohama, Kanagawa 2268502, Japan;
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机译:金属有机化学气相沉积生长(100)取向Pb(Mg_(1/3)Nb_(2/3))O_3外延膜室温介电常数的厚度的强相关性
机译:Pb(Mg_(1/3)Nb_(2/3))O_3-Pb(Ni_(1/3)Nb_(2/3))O_3-Pb(Zr,Ti)O_3薄层的电气和机电性能的温度依赖性电影
机译:Pb(Mg_(1/3)Nb_(2/3))O_3和(Pb_(1-x)La_x)(Mg _((1 + x)/ 3)Nb _((2-x)/ 3)的介电性能钴矿路线制备的O_3陶瓷
机译:(X)Pb(IN_(1/2)NB_(1/2))O_3:(L-X)PB(MG_(1/3)NB_(2/3))O_3松弛器陶瓷中的介电性质和远程结构顺序
机译:用于ULSI互连应用的低k电介质的关键特性和可靠性:厚度和温度依赖性。
机译:通过极化旋转描述硅上(001)和(110)取向(PbMg1 / 3Nb2 / 3O3)2 / 3-(PbTiO3)1/3薄膜的外延特性
机译:在准形相界中,$ m_B $和$ m_C $阶段的证据 区域$(1-x)[pb(mg_ {1/3} Nb_ {2/3})O_3] -xpbTiO_3 $:Rietveld研究