机译:导通态栅极偏置引起p-GaN栅极AlGaN / GaN功率器件泄漏电流增加的机理
Griffith Univ, Queensland Micro & Nanotechnol Ctr, Nathan, Qld 4111, Australia;
Shenzhen Univ, Coll Optoelect Engn, Key Lab Optoelect Devices & Syst, Minist Educ & Guangdong Prov, Shenzhen 518060, Peoples R China;
Hong Kong Univ Sci & Technol, Dept Phys, Kowloon, Hong Kong, Peoples R China;
机译:增强模式p-GaN栅极AlGaN / GaN高电子迁移率晶体管中的正向偏置栅极击穿机制
机译:常关型p-GaN / AlGaN / GaN高电子迁移率晶体管的栅极泄漏机理
机译:高反向偏压下AlGaN / GaN高电子迁移率晶体管结构栅漏电流的薄表面势垒模型研究及计算机辅助设计仿真。
机译:P-GaN门AlGaN / GaN Hemts中的状态栅极应力诱导阈值稳定性
机译:研究常关模式的AlGaN / GaN MOS HEMT器件,该器件利用栅极后退和p-GaN栅极结构以及带有醛生长的高k栅极绝缘体来实现高功率应用。
机译:栅漏电流在AlGaN / GaN肖特基栅HFET和MISHFET中引起的陷阱
机译:AlGaN / GaN异质结构场效应晶体管中的电流崩溃和栅极泄漏电流的机制
机译:自对准aLD alOx T栅极绝缘体,用于siNx钝化alGaN / GaN HEmT中的栅极漏电流抑制