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机译:埋入式背栅的新型绝缘体上金属硅氧化物半导体场效应晶体管
Department of Bioengineering and Robotics, Tohoku University, 01 Aoba-Aramaki-aza, Aoba-ku, Sendai 980-8579, Japan;
buried back gate; silicon-on-insulator; MOSFET; threshold voltage;
机译:消除低掺杂埋层的绝缘子上硅横向双扩散金属氧化物半导体场效应晶体管的背栅偏置效应的优化设计
机译:完全耗尽的绝缘体上硅金属氧化物半导体场效应晶体管的正面和掩埋氧化物界面陷阱密度的提取
机译:具有超薄埋入氧化物的本征沟道绝缘体上硅金属氧化物半导体场效应晶体管的阈值电压阈值电压依赖性
机译:静态功耗-绝缘金属氧化物半导体场效应晶体管上的硅
机译:质子交换铌酸锂和亚微米级绝缘体上硅金属氧化物半导体场效应晶体管的共线声光相互作用。
机译:质子辐照对常断型AlGaN / GaN栅嵌入式金属-绝缘体-半导体异质结构场效应晶体管随时间变化的介电击穿特性的影响
机译:(100) - (100) - 和(110) - 超薄 - 身体(UTB)硅 - 绝缘体(SOI)金属氧化物半导体场效应晶体管(110) - 和(110) - 和(110)的孔隙
机译:绝缘体上硅(sOI)金属氧化物半导体场效应晶体管(mOsFET's)的总剂量响应