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机译:反射高能电子衍射-俄歇电子能谱研究Si(001)表面上非常薄的氧化物的生长和分解动力学的限速反应
Institute of Multidisciplinary Research for Advanced Materials, Tohoku University, 2-1-1 Katahira, Aoba-ku, Sendai 980-8577, Japan;
silicon; oxidation; decomposition; rate-limiting reaction; layer-by-layer oxidation; strain; point defect generation; emitted Si atom; vacancy; real-time monitoring; RHEED; AES;
机译:俄歇电子能谱结合反射高能电子衍射实时监测Si(001)表面上非常薄的氧化物层的生长动力学
机译:通过螺旋钻电子光谱结合反射高能电子衍射,实时监测Si(001)表面上非常薄的氧化物层的生长动力学
机译:利用反射高能电子衍射和俄歇电子能谱研究了Cu-9%Al(111)表面超薄氧化物层的形成和Pd的生长
机译:实时俄歇电子能谱研究Si 001表面上非常薄的氧化物生长过程中的自限氧化
机译:实时光电子能谱研究在p型和n型Si(001)表面上的氧化反应动力学。
机译:利用反射高能电子衍射和扫描隧道显微镜原位控制条形衬底上Si / Ge的生长
机译:螺旋钻电子光谱与反射高能电子衍射相结合的Si热氧化的实时监测。