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机译:带有缓冲层的Si衬底上生长的AlGaN / GaN外延层中位错引起的表面坑的研究
Yokohama R&D Laboratories, The Furukawa Electric Co., Ltd., 2-4-3 Okano, Nishi-ku, Yokohama 220-0073, Japan;
GaN; Si substrate; surface pits; atomic force microscope; plan-view TEM;
机译:Si衬底上生长的AlGaN / GaN外延层中的位错引起的表面缺陷结构的研究
机译:使用金红石型TiO2缓冲层在GaN / AlGaN / GaN / Si(111)衬底上集成外延Pb(Zr0.52Ti0.48)O-3薄膜
机译:具有AlN / AlGaN缓冲层的Si(111)基板上三维生长的GaN岛中的螺纹位错减少
机译:Inn Nano Rods和HVPE在蓝宝石基板上生长的外延层和GaN,Algan,Aln模板
机译:氮化锆/氮化铝缓冲层,用于在硅基板上外延生长(铟,镓)氮化物。
机译:接近无应变的GaN兼容缓冲层上GaN外延层中的超低穿线位错密度及其在异质外延LED中的应用
机译:使用MOVPE在SiC衬底上生长的AlGaN / GaN异质结构中使用原位沉积的SiNx中间层降低位错密度
机译:铍掺杂GaN缓冲层对外延alGaN / GaN异质结构电子性质的邻近效应