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机译:相变随机存取存储器中掺Sn的Ge_2Sb_2Te_5的相变特性及器件性能
School of Materials Science and Engineering, Yonsei University, Seoul 120749, Korea;
phase change material; Sn-doped Ge_2Sb_2Te_5; laser-induced crystallization; PRAM; electrical properties of amorphous semiconductor;
机译:磁控溅射Ge_2Sb_2Te_5薄膜相变随机存取存储器件中SiO_2的掺入效应
机译:碳掺杂Ge_2Sb_2Te_5薄膜在40 nm工艺中用于相变随机存取存储器的缩放性能研究
机译:非易失性相变存储器件中CHF_3 / O_2等离子体中Sn掺杂Ge_2Sb_2Te_5的反应离子刻蚀
机译:基于电气切换特性的氮掺杂Ge_2SB_2TE_5相变随机存取存储器
机译:具有相变随机存取存储器的氮掺杂锗锑碲化物的超晶格状结构。
机译:电极材料对用于相变随机存取存储器的原子层沉积生长的GeTe结晶的影响
机译:基于GE-SB-TE的相变随机存取存储器设备的微结构相关的DC SET切换行为