...
机译:Z型扫描技术探测氢化非晶硅薄膜的非线性光学性质
Department of Applied Physics, Graduate School of Engineering, Hokkaido University, Kita-ku, Sapporo 060-8628, Japan;
amorphous Si; nonlinear optics; Z-scan; optical device;
机译:Z扫描技术研究的二氧Ph磷BYE掺杂的PMMA薄膜的三阶光学非线性和光限制特性
机译:使用Z扫描技术研究CBD技术制备的CdS薄膜的线性和非线性光学性质
机译:用光混合技术研究沉积条件对本征氢化非晶硅和氢化非晶碳化硅薄膜传输性能的影响
机译:非线性光学性能为0.7(Na_(1/2)Bi_(1/2))TiO_3-0.3(K_(1/2)Bi_(1/2))TiO_3使用Z扫描技术的薄膜
机译:使用光学和光声Z扫描技术表征新卟啉的非线性性质
机译:在氢化非晶硅微圆柱谐振器中使用Kerr非线性进行超快光学控制
机译:使用直流等离子体增强化学气相沉积(DC-PECVD)技术沉积的氢化非晶碳(a-C:H)薄膜的结构和光学性质