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机译:通过等离子体化学气相沉积沉积在接地电极上的类金刚石碳膜的介电常数非常低
Faculty of Engineering and HRC, Kansai University, Suita, Osaka 564-8680, Japan;
dielectric constant; diamond-like carbon; plasma-enhanced CVD;
机译:等离子体化学气相沉积沉积在接地电极上的氢化类金刚石碳膜中电子陷阱的中和和放电
机译:C_4F_8和Si_2H_6 / He用于低介电常数金属间层电介质的氟化非晶碳薄膜的等离子体化学气相沉积生长
机译:等离子增强化学气相沉积法在低介电常数SiOC(-H)薄膜中Cu扩散行为的研究
机译:6.2:通过使用等离子体化学气相沉积沉积的无氢类金刚石碳膜来增强场发射特性
机译:通过等离子体增强的含硅的低介电常数碳氟化合物薄膜增强了化学气相沉积。
机译:在Nafion负载的电化学沉积钴纳米粒子上进行等离子体增强化学气相沉积产生的金属/碳杂化纳米结构
机译:等离子体增强化学气相沉积和溶剂法合成碳氟化合物多孔膜的孔隙率和介电常数
机译:通过等离子体增强化学气相沉积沉积的无定形碳膜作为平面化层。