机译:基于GaN的高电子迁移率晶体管中的倾斜场板的新工艺方法
Tohoku Univ, Res Inst Elect Commun, Sendai, Miyagi 9808577, Japan;
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MIT, Microsyst Technol Labs, Cambridge, MA 02139 USA;
MIT, Microsyst Technol Labs, Cambridge, MA 02139 USA;
机译:倾斜场板可改善AlGaN / GaN高电子迁移率晶体管的击穿电压和RF特性
机译:带有场调制板的GaN基场效应晶体管的截面电场的观察
机译:场效应晶体管的斜场板模型
机译:使用在X波段具有5W / mm功率密度的深紫外光刻技术在带有倾斜场板的硅基板上制造AlGaN / GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)
机译:GaN基异质结场效应晶体管的数值模拟。
机译:倒置型Inalas / INAS高电子 - 移动晶体管具有液相氧化INALAS作为栅极绝缘体
机译:飞秒的飞秒亚带动力学的基于AlGaN / GaN的高电子迁移率晶体管