机译:高k /金属栅极晶体管在扩散和栅极替换(D&GR)方案中的CMOS集成,用于动态随机存取存储器外围电路
IMEC, Kapeldreef 75, B-3001 Leuven, Belgium;
IMEC, Kapeldreef 75, B-3001 Leuven, Belgium;
IMEC, Kapeldreef 75, B-3001 Leuven, Belgium;
IMEC, Kapeldreef 75, B-3001 Leuven, Belgium;
IMEC, Kapeldreef 75, B-3001 Leuven, Belgium;
Micron Technol Belgium, B-3001 Leuven, Belgium;
Micron Technol Belgium, B-3001 Leuven, Belgium;
SK Hynix, Icheon Si 17336, Gyeonggi Do, South Korea;
IMEC, Kapeldreef 75, B-3001 Leuven, Belgium;
IMEC, Kapeldreef 75, B-3001 Leuven, Belgium;
IMEC, Kapeldreef 75, B-3001 Leuven, Belgium;
IMEC, Kapeldreef 75, B-3001 Leuven, Belgium;
IMEC, Kapeldreef 75, B-3001 Leuven, Belgium;
IMEC, Kapeldreef 75, B-3001 Leuven, Belgium;
IMEC, Kapeldreef 75, B-3001 Leuven, Belgium;
机译:采用28 nm高k /金属栅平面体CMOS技术的高度对称10晶体管2读/写双端口静态随机存取存储器位单元设计
机译:扩散和栅极替换:一种新的栅极优先的高/金属栅极CMOS集成方案,可抑制栅极高度不对称
机译:热处理和等离子处理,用于改进(小于)1 nm等效氧化物厚度的平面和基于FinFET的替代金属栅极高k后器件,并支持简化的可扩展CMOS集成方案
机译:一种新的高k /金属栅极CMOS集成方案(扩散和栅极替换)可抑制栅极高度不对称并与高热预算存储器技术兼容
机译:电荷陷阱晶体管(CTT):将逻辑晶体管转换为高级高k /金属门CMOS技术的嵌入式非易失性存储器
机译:随机纳米氮化钛晶粒引起的动态功率延迟的特性波动以及全能门纳米线CMOS器件和电路的纵横比效应
机译:高k /金属栅28 nm RF CmOs晶体管的互调线性