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机译:磁控溅射制备Fe:NiO_x薄膜电化学行为的影响因素的详细分析。
Beijing Solar Energy Research Institute, Beijing 100083, China;
oxygen evolution catalysts; overpotential; reactive magnetron sputtering technology;
机译:直流磁控溅射制备的荷电FeCrNi基薄膜的微观结构和He解吸行为
机译:室温下通过直流反应磁控溅射制备的具有优势{001}面的锐钛矿型TiO2薄膜:氧缺陷和可见光增强的光催化行为
机译:过渡元素掺杂对磁控溅射制备的BiFeO_3薄膜的结构,光学和磁性的影响
机译:Bi含量对磁控溅射制备铋铁氧体薄膜性能的影响
机译:溅射参数对RF磁控溅射沉积ITO膜的影响
机译:直流磁控溅射过程中衬底偏置对VO2薄膜质量及其绝缘体-金属过渡行为的影响
机译:ND-Fe-B磁体对RF磁控溅射制造的渗透合金薄膜磁各向异性方向的影响