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【24h】

New defect monitoring system speeds process ramp

机译:新的缺陷监控系统加快了流程的速度

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摘要

KLA-Tencor has unveiled its latest defect management system designed to help chip manufacturers overcome the challenges associated with ramping their advanced lithography processes into production. Combining KLA-Tencor's defect management hardware and software tools, a new proprietary reticle design and optimised test wafers, MicroPCM offers fabs an efficient and cost-effective methodology that enables them to identify and eliminate lithography-related micro defects before product lots are placed at risk.
机译:KLA-Tencor推出了其最新的缺陷管理系统,旨在帮助芯片制造商克服将其先进的光刻工艺投入生产所带来的挑战。结合KLA-Tencor的缺陷管理硬件和软件工具,新的专有标线设计和优化的测试晶圆,MicroPCM为晶圆厂提供了一种高效且具有成本效益的方法,使他们能够在产品批次面临风险之前识别并消除与光刻相关的微缺陷。 。

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