机译:用于256 Mb DRAM的NAND结构的沟槽电容器单元技术
ULSI Research Center, TOSHIBA CORPORATION, Kawasaki-Shi, 210 Japan;
memory; DRAM; trench; capacitor;
机译:MOS电容器电荷存储容量的迭代逼近及其在DRAM沟槽电容器存储单元中的应用
机译:激活能分析方法及其在110 nm技术中应用于256Mb DRAM的单个单元的方法
机译:64和256 Mbit一晶体管单元MOSD DRAM的存储单元和技术问题
机译:用于低成本256 Mb DRAM的NAND结构单元技术
机译:DRAM电容器的电和介电特性。
机译:基于技术-计算机辅助设计的DRAM存储电容器可靠性预测模型
机译:基于技术 - 计算机辅助设计的DRAM存储电容的可靠性预测模型