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机译:在热时效过程中增加硬金镀层的接触电阻-镍硬化金和钴硬化金-
nickel-hardened gold; cobalt-hardened gold; contact resistance; X-ray photoelectron spectroscopy; aging; oxide film formation;
机译:薄镀金触头中的电接触电阻:镀金厚度的影响
机译:电触头硬金镀层的优化
机译:低接触压力(<1 MPa)下的热隙电导:镀金和镀层厚度的影响
机译:电镀镍硬化金的耐磨性
机译:钛镍银和金芯片的背面金属化可降低Quad Flat Nolead封装的热阻。
机译:詹姆斯·亚历山大(Hamish)查尔默斯·诺曼·克赖顿·托马斯·休·英格兰·罗杰·菲利普·戈尔丁·约翰·理查德·休威特·亚瑟·理查德(迪克)Kittermaster·安东尼·罗伯·里昂·多米尼克·威廉·安德鲁·麦克雷迪·罗莎莉·艾达·海伦·保罗·安东尼·费里尔·斯塔拉德
机译:在氧等离子体激活的金晶种层上进行选择性化学镀镍,以制造低接触电阻的通孔和微结构