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HEMTのテラヘルツ帯プラズマ共鳴に与える寄生ゲートフリンジ容量の影響

机译:寄生栅极边缘电容对HEMT的太赫兹带等离子体共振的影响

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摘要

Influence of fringing electric field due to nonideality of the gate-two-dimensional electron gas (2DEG) channel capacitance on fundamental resonant frequency of plasma waves in the high-electron mobility transistor (HEMT) channel was investigated. Cascaded transmission line (TL) equivalent circuit model was developed to represent the gated and ungated fringed regions of the 2DEG channel. Spatial distribution of sheet electron density in the fringed region of the 2DEG channel and expression for fundamental resonant frequency of plasma oscillation were obtained. Results of calculation and IsSpice simulation based on cascaded TL model show that fringing effects can be the cause of the fundamental plasma frequency reduction. The results obtained are in rather good agreement with experimental data.%高電子移動度トランジスタ(HEMT)の2次元電子ガス(2DEG)チャネル内で励起されるプラズモンの基本共鳴周波数に及ぼすゲートーチャネル間寄生容量に伴うフリンジング電界の影響を検討した。2DEGチャネルの真性ゲート領域と非ゲート領域部のフリンジング効果を表現するためにカスケード伝送線路(TL)等価回路モデルを新たに導入し、本等価回路モデルに基づいて2DEGチャネルのフリンジング領域のシート電子密度の空間分布と基本プラズモン共鳴周波数の表現式を導出した。解析式による計算結果とカスケードTLモデルに基づくIsSpiceシミュレーション結果はともに、フリンジング効果が基本プラズモン周波数の低下要因となることを示している。提案するモデルは、従来モデルに比して実験データをよく説明できる。
机译:研究了栅极二维电子气(2DEG)沟道电容的非理想性引起的边缘电场对高电子迁移率晶体管(HEMT)沟道中等离子体波的基本谐振频率的影响,等效级联传输线(TL)建立了表示2DEG通道的门控和非门控边缘区域的电路模型,获得了2DEG通道的边缘区域的薄层电子密度的空间分布以及等离子振荡的基本共振频率的表达式。基于计算和IsSpice仿真的结果在级联TL模型上的结果表明,边缘效应可能是基本等离子体频率降低的原因。所得结果与实验数据相当吻合。%在高电子迁移率晶体管(HEMT)的二维电子气(2DEG)通道中研究了与栅极和沟道之间的寄生电容相关的边缘电场对激光激发的等离子体激元的基本共振频率的影响。新引入了级联传输线(TL)等效电路模型来表达2DEG通道的本征栅极区域和非栅极区域的边缘效应,并且2DEG通道的边缘区域的表层基于此等效电路模型。推导了电子密度和基本等离子体激元共振频率的空间分布表达式。解析公式的计算结果和基于级联TL模型的IsSpice仿真结果均表明,边缘效应是降低基本等离子体激元频率的因素。所提出的模型可以比常规模型更好地解释实验数据。

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