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【24h】

触媒反応により生成した高エネルギーH_2O を用いてサファイア基板上に成長したZnO結晶薄膜の光学特性

机译:使用催化反应产生的高能H2O在蓝宝石衬底上生长的ZnO晶体薄膜的光学特性

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摘要

白金ナノ粒子表面での水素と酸素の発熱反応を利用して高エネルギーH_2O を生成、アルキル亜鉛ガスと衝突させ生成した高エネルギーZnOプリカーサを基板に供給、サファイアA面基板上にZnO結晶膜を成長させた。サファイア基板をリファレンスにしたサンプルの透過率は、可視・近赤外領域で95%以上と非常に透明であった。室温PL測定では3.29eVに半値幅104meV の強いバンド端発光を観測した。低温PL測定(5K)では3.3603eVに中性ドナー束縛励起子からの発光が最も強く見られ、その半値幅は1.0meVであった。また3.3757eVと3.4221eVに自由励起子によると考えられる発光FX_A(n=1)、及びFX_A(n=2)を観測した。%Optical properties of ZnO thin films, which were grown through a reaction between dimethylzinc and high-energy H_2O produced by a Pt-catalyzed H_2-O_2 reaction, were measured. The films were grown directly on a-plane (11-20) sapphire substrates at 773-873 K without a buffer layer. The optical transparency of the ZnO films in the visible and near-infrared regions was more than 95% of that of a substrate without ZnO film. Intense band-edge luminescence was observed at 3.29 eV at room temperature, and its FWHM value was 104 meV. The most intense PL peak at low temperature (5 K) was observed at 3.3803 eV, and was assigned to luminescence from donor bound excitons, the associated FWHM value being 1.0 meV. At the same time, free exciton peaks derived from FX_A (n = 1) and FX_A (n = 2) were observed.
机译:利用铂纳米粒子表面上的氢和氧的放热反应产生高能H_2O,将与烷基锌气体碰撞产生的高能ZnO前驱物供应到基板,并在蓝宝石A侧基板上生长ZnO晶体膜。让使用蓝宝石衬底作为参考的样品在可见/近红外区域的透射率为95%或更高,这是非常透明的。在室温PL测量中,在3.29 eV处观察到强带边缘发射,该发射带的半峰全宽为104 meV。在低温PL测量(5K)中,观察到来自中性供体结合的激子的最强发射为3.3603eV,半峰宽为1.0 meV。在3.3757 eV和3.4221 eV处观察到发射FX_A(n = 1)和FX_A(n = 2),这被认为是由于自由激子​​引起的。测量通过二甲基锌与Pt催化的H_2-O_2反应产生的高能H_2O反应生长的ZnO薄膜的光学性能%,薄膜直接在a面(11-20)蓝宝石上生长衬底在773-873 K时没有缓冲层,可见光和近红外区域中ZnO薄膜的光学透明性是没有ZnO薄膜时95%的光学透明性,在3.29 eV处观察到强烈的带边发光在室温下,其FWHM值为104 meV。在低温(5 K)处观察到最强的PL峰为3.3803 eV,并归因于供体结合的激子的发光,相关的FWHM值为1.0 meV。同时,观察到源自FX_A(n = 1)和FX_A(n = 2)的自由激子峰。

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