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平滑化による形状記憶フイルム上への低電圧駆動有機トランジスタの作製

机译:通过平滑在形状记忆膜上制备低压驱动有机晶体管

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摘要

We fabricated low operation voltage organic transistors on shape-memory film which memorizes its shape by applying heat more than 150°C and can be applied to elastic circuits. Although this film had a problem of rough surface with RMS roughness of as large as 190 nm, we obtained p-type organic transistors with mobility of 0.51 cm~2/Vs and organic CMOS inverters with gain of 92 by forming a polyimide planarization layer. Furthermore, we obtained p-type transistors with mobility of 1.8 cm~2/Vs by adding a parylene planarization layer and using anodization process of gate electrodes.%我々は,熱で形状を記憶するフイルム上に低電圧駆動有機トランジスタを作製した.用いた形状記憶フイルムは150℃以上に加熱することで加熱時の形状を記憶し,伸縮性回路等に応用することができ.形状記憶フイルムはMS値190nmと表面が粗いことが課題であったが,ポリイミドを用いて平滑化を行うことにり,移動度0.51cm~2/Vsのp型有機トランジスタ,ゲイン92の有機CMOSインバータを得ることができた.更にリレン平滑化層を加え,ゲート電極の陽極酸化を用いることで移動度1.8cm~2/Vsのp型トランジスタを得るとができた.
机译:我们在形状记忆膜上制造了低工作电压有机晶体管,该膜通过施加超过150°C的热量来记忆其形状,并且可以应用于弹性电路,尽管该膜存在表面粗糙的问题,RMS粗糙度高达190 nm通过形成聚酰亚胺平坦化层,我们获得了迁移率为0.51 cm〜2 / Vs的p型有机晶体管和增益为92的有机CMOS反相器。我们在薄膜上制造了一个低压驱动有机晶体管,该薄膜可以通过热量记住其形状。所用的形状记忆膜可以记住在150°C以上加热时的形状,并且可以应用于可拉伸电路。形状记忆膜的问题在于,MS值为190 nm,表面粗糙,但是使用聚酰亚胺进行了平滑处理,并使用了迁移率为0.51 cm至2 / Vs的p型有机晶体管和增益为92的有机CMOS。我有一个逆变器。通过添加一个对二甲苯平滑层并使用栅极的阳极氧化,可以得到迁移率为1.8 cm〜2 / Vs的p型晶体管。

著录项

  • 来源
    《電子情報通信学会技術研究報告》 |2011年第369期|p.23-28|共6页
  • 作者单位

    東京大学工学系研究科 〒113-8656 東京都文京区本郷7-3-1;

    東京大学工学系研究科 〒113-8656 東京都文京区本郷7-3-1 科学技術振興機構(JST)戦略的創造研究推進事業(ERATO)〒113-0032東京都文京区弥生2-11-16;

    東京大学工学系研究科 〒113-8656 東京都文京区本郷7-3-1;

    東京大学工学系研究科 〒113-8656 東京都文京区本郷7-3-1;

    マックスプランク研究所 Heisenbegstrasse 1;

    70569 Stuttgart;

    Germany;

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    広島大学工学研究科 〒739-8527 広島県東広島市境山1-4-1;

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    日太化薬 〒102-8172 東京都千代田区富士見1-11-2 東京富士見ビル;

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    東京大学工学系研究科 〒113-8656 東京都文京区本郷7-3-1 科学技術振興機構(JST)戦略的創造研究推進事業(ERATO)〒113-0032東京都文京区弥生2-11-16;

  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 jpn
  • 中图分类
  • 关键词

    有機トランジスタ; CMOSインバータ; 自己組織化単分子膜; 平滑化;

    机译:有机晶体管;CMOS反相器;自组装单层;平滑;
  • 入库时间 2022-08-18 00:31:36

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