机译:逆传热法快速热处理12英寸硅片的热均匀性
机译:逆传热法快速热处理12英寸硅片的热均匀性
机译:线性升温温度瞬态快速热处理中12英寸硅片的热均匀性
机译:通过过滤窗口提高在快速热系统(RTP:快速热工艺)中加热的硅晶片的温度均匀性
机译:用灯快速热加工期间加热控制条件对晶片温度分布的影响(监测位置的效果和初始非均匀温度分布)
机译:使用原位椭偏仪在快速热处理中测量和控制硅片温度和氧化膜厚度。
机译:用数值模拟和反演方法计算黄瓜对流换热系数和热扩散率。
机译:使用“UBTo 1801”单元在快速热处理过程中仿真硅晶片加热
机译:非均匀温度分布表面的传热第一部分 - 平板上等温热极的层流传递