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机译:栅极氧化过程中由于电荷陷阱和磷污染物引起的栅极氧化物的瞬时泄漏
ON Semiconductor, Pocatello, ID, USA;
ON Semiconductor, Pocatello, ID, USA;
ON Semiconductor, Pocatello, ID, USA;
ON Semiconductor, Pocatello, ID, USA;
Transient analysis; Phosphorus; Oxidation; Failure analysis; Current-voltage characteristics;
机译:应力诱导的漏电流与超薄栅极氧化物的正捕获电荷的相关性
机译:掺Dy的$ hbox {HfO} _ {2} $栅氧化物n-MOS器件的栅极漏电流和电荷陷阱特性降低
机译:辐射引起的反向沟道泄漏和反向栅极偏置对薄栅氧化物部分耗尽绝缘硅上n沟道金属氧化物半导体场效应晶体管的漏电流瞬态的影响
机译:由于空间输送的磷污染物恒定源极渗透栅极氧化物缺陷的瞬态泄漏
机译:等离子体工艺引起的薄栅极氧化物上的充电损伤
机译:栅漏电流在AlGaN / GaN肖特基栅HFET和MISHFET中引起的陷阱
机译:热载流子应力,氧化物击穿和栅极泄漏电流之间的相关性,用于监测等离子体处理对栅极氧化物造成的损坏
机译:ZmR(区域熔化 - 再结晶)和sImOX(氧注入)sOI(绝缘体上硅)mOsFET中的栅极氧化物泄漏和电荷俘获的研究