机译:总剂量损伤的退火:界面态密度在[100],[110]和[111]取向硅上的重新分布
机译:Si(110)/ SiO_2界面处的界面态能量分布和P_b缺陷:与(111)和(100)硅取向的比较
机译:氧在阶梯状Ni表面3(hkl)×(111)上的比较密度泛函理论研究[hkl =(111); (100); (110)]:露台定向的作用
机译:注入Ar〜+离子的(100),(110)和(111)MgO单晶的辐射损伤退火
机译:在(100),(110)和(111)硅上生长的原位掺杂硼(B)的锗(Ge:B):晶体取向和B掺入效应
机译:二氧化钛(110)表面和硅(100)/二氧化硅界面的第一原理理论研究。
机译:沿着112110001和111方向生长的硅纳米线的NH3分子掺杂
机译:单晶Pt(111),Pt(100)和Pt(110)电极中表面原子结构与可逆氢吸附-解吸过程的相关性原子表面结构与单晶氢可逆吸附-解吸之间的相关性晶体Pt(111),Pt(100)和Pt(110)电极
机译:热氧化(100),(110),(111),(511)硅中si-siO2界面电荷的研究