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余学峰; 张国强; 艾尔肯; 郭旗; 陆妩; 任迪远;
中国科学院新疆理化技术研究所,新疆乌鲁木齐,830011;
MOS电容; 氧化物电荷; 界面态; 能级分布;
机译:Si / SiO2界面处的次氧化物:采用同步辐射的Si2p核心能级研究
机译:Be注入SiSiO2界面诱导的单能级表面态的性质
机译:通过操作硬X射线光电子能谱的SiO2 / 4H-SiC界面的界面态的能量分布观察
机译:SiO2 / Si和Si3N4 / SiO2 / Si纳米界面的折射率和界面态的实验和计算研究
机译:考虑到辐射电子空穴重组单层WSE2和SiO2之间的界面热敏性
机译:解开介孔SiO2中的界面相互作用用于光催化活性的中孔SiO2中的介孔SiO 2中镍硅酸盐/ TiO2核壳纳米结构
机译:Si / SiO2中间能隙界面态与p型硅中的硅氧超晶格相关的深能级之间的比较
机译:siO2 / si系统半年度报告中的杂质和界面态
机译:SIO2 / SIC结构中界面态的氮钝化
机译:sio2 / sic结构中界面态的氮钝化
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