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机译:多栅极馈送结构对0.1- $ mu {hbox {m}} $变质高电子迁移率晶体管的栅极电阻和RF特性的影响
Millimeter-Wave Innovation Technol. Res. Center (MINT), Dongguk Univ., Seoul;
high electron mobility transistors; integrated circuit interconnections; air-bridge interconnection; cutoff frequency; depletion mode metamorphic HEMT; gate resistance; gatewidth; metamorphic high electron-mobility transistors; multigate-feeding structure; size 0.1 mum; maximum frequency of oscillation; power high electron-mobility transistor (HEMT); small-signal parameter;
机译:使用$(hbox {In} _ {x} hbox {Ga} _ {1-x} hbox {As})_ {m} /(hbox {InAs})_ {n } $适用于毫米波应用的超晶格通道结构
机译:0.1-
机译:用于71-76和81-86 GHz功率放大器的0.1-InAlN / GaN高电子迁移率晶体管:钝化和栅极凹进的影响
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机译:硅化物和器件结构对有源矩阵液晶显示器用多晶硅薄膜晶体管的特性和电路性能的影响。
机译:质子辐照对常断型AlGaN / GaN栅嵌入式金属-绝缘体-半导体异质结构场效应晶体管随时间变化的介电击穿特性的影响
机译:0.1μm变质高电子移动晶体管的多指结构的缩放规则
机译:透水基三极管,对置栅 - 源晶体管和异质结构发射弹道场效应晶体管比较电性能的数值模拟