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【24h】

Enhanced Optimal Multi-Row Detailed Placement for Neighbor Diffusion Effect Mitigation in Sub-10 nm VLSI

机译:低于10 nm VLSI的增强的最优多行详细放置,可减轻邻居扩散效应

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摘要

Layout-dependent effect causes variation in device performance as well as mismatch in model-hardware correlation in sub-10 nm nodes. In order to effectively explore the power-performance envelope for IC design, cell libraries must provide cells with diffe
机译:依赖于布局的效应会导致器件性能变化,以及在10纳米以下节点中模型硬件相关性不匹配。为了有效地探索IC设计的功率性能范围,单元库必须为单元提供不同的功能

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