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【24h】

1.55-Μm buried-heterostructure VCSELs with InGaAsP/lnP-GaAs/AlAsDBRs on a GaAs substrate

机译:在GaAs衬底上具有InGaAsP / InP-GaAs / AlAsDBR的1.55-μm埋藏异质结构VCSEL

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摘要

We demonstrate 1.55-Μm buried-heterostructure (BH)nvertical-cavity surface-emitting lasers (VCSELs) on a GaAs substrate.nThin-film wafer-fusion technology enables InP-based BH VCSELs to benfabricated on GaAs/AlAs distributed Bragg reflectors. Detailedninvestigations of the device resistance are also described. As a resultnof introducing BH and obtaining low device resistance, the thresholdncurrent density under CW operation shows the independence of mesa sizendue to a strong index guide and small noneffective current. A 5-ΜmnVCSEL exhibits a record threshold current of 380 ΜA at 20°C. ThisnVCSEL also operates with single transverse mode up to the maximumnoptical output power
机译:我们在GaAs基板上演示了1.55μm的埋藏异质结构(BH)垂直腔表面发射激光器(VCSEL).n薄膜晶圆融合技术使基于InP的BH VCSEL可以被制成GaAs / AlAs分布式布拉格反射器。还描述了器件电阻的详细研究。由于引入了BH并获得了低的器件电阻,CW操作下的阈值电流密度显示了台面尺寸的独立性,这归因于强大的折射率指标和较小的无效电流。 5-ΜmnVCSEL在20°C时记录的阈值电流为380ΜA。该nVCSEL还可以在最大横向输出功率的情况下以单横向模式工作

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