机译:以设计为中心,提高GaAs MESFET的良率和噪声系数
机译:通过使用单片工艺提高低温下GaAs MESFET的动态和1 / f噪声性能
机译:适用于1.9 GHz单芯片前端MMIC的具有高功率效率和低噪声系数的埋线自对准GaAs MESFET
机译:半微米栅长离子注入GaAs MESFET,16 GHz时噪声系数为0.8 dB
机译:从扫频噪声系数测量中提取GaAs MESFET和PHEMT的噪声参数
机译:用于低噪声应用的铜/钛金属化GaAs MESFET和HEMT的制造,测试和可靠性建模。
机译:使用液相沉积的TiO2作为栅介质的AlGaAs / InGaAs PHEMT的亚阈值特性和闪烁噪声降低
机译:GaAs MESFET电路设计中的噪声测量,模型和分析
机译:利用射频大信号品质因数模拟Gaas mEsFET工艺产量。 (重新公布新的可用性信息)。