大気坮マルチガス高純度プラズマ源の開発と応用

摘要

CVDやエッチングをはじめとしたプラズマ気相反応は半導体産業などに広く使用され， 現代のIT社会に不可欠な技術となっている。従来，こうしたプラズマ源のほとんどは減圧 下で生成されていたが，ここ数年，大気圧プラズマが注目を集めている。しかし，大気圧 下ではプラズマ化できるガス種に制限があった。筆者らは，さまざまなガスをプラズマガ スとしてプラズマを生成できる，マルチガス高純度プラズマ源を開発したので報告する。