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Silicon dioxide films fabricated by electron cyclotron resonant microwave plasmas

机译：电子回旋共振微波等离子体制备的二氧化硅薄膜

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High-quality silicon dioxide films are deposited on a silicon

机译：在硅上沉积高质量的二氧化硅膜

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来源
《IEEE Transactions on Electrical Insulation》 |1990年第3期|P.593-598|共6页
作者
Chau T.T.; Herak T.V.;
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作者单位

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原文格式 PDF
正文语种 eng
中图分类无线电电子学、电信技术;
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