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机译:在液氮温度下工作的累积型SOI pMOS器件的延迟开启现象
Dept. of Electr. Eng., Nat. Taiwan Univ., Taipei, Taiwan;
accumulation layers; cryogenics; metal-insulator-semiconductor devices; semiconductor-insulator boundaries; 77 K; Si-SiO 2; accumulation-type SOI pMOS device; carrier freezeout effects; delayed-turn-on phenomenon; drain current; low-temperature PISCES simulation; transconductance;
机译:在液氮温度下运行的超导磁储能装置
机译:K.K.对“液氮温度下SOI CMOS器件的操作”的评论和答复。 Young和B.-Y.察尔
机译:液氮温度下SOI CMOS器件的操作
机译:工作在77K的累积型超薄SOI PMOS器件的分析延迟开启模型
机译:SiGe PMOS器件上的总电离剂量辐射效应和负偏置温度不稳定性
机译:稀土-钡-铜-氧化物高温超导体煎饼线圈的持续电流开关:在液氮(77-65 K)和固态氮(60-57 K)下工作的双煎饼线圈的设计和测试结果)
机译:稀土钡 - 铜氧化铜高温超导体的持续电流开关:在液氮(77-65 k)和固体氮气中操作的双骨煎饼线圈的设计和测试结果(60-57 k )
机译:液氮温度下sOI CmOs器件的工作原理