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【24h】

Monte Carlo Simulation of Ion Implantation in Crystalline SiC With Arbitrary Polytypes

机译:任意多晶型碳化硅中离子注入的蒙特卡洛模拟

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摘要

A Monte Carlo model for ion implantation in crystalline SiC is developed, which can be applied to arbitrary polytypes, including but not limited to 2H-SiC, 3C-SiC, 4H-SiC, 6H-SiC, and 15R-SiC. It is shown that with optimized parameters, a semiempirical el
机译:建立了用于晶体SiC中离子注入的蒙特卡洛模型,该模型可以应用于任意多型,包括但不限于2H-SiC,3C-SiC,4H-SiC,6H-SiC和15R-SiC。结果表明,在优化参数的情况下,半经验方程

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